近期,一种可应用于未来超算设备的新型半导体材料浮出水面。这种半导体名为硒化铟 (InSe),它只有几原子厚,十分接近石墨烯。本月,曼彻斯特大学和诺丁汉大学的研究人员们把这项研究发表在学术期刊 《Nature Nanotechnology》上。“石墨烯之父 ”Sir Andre Geim 表示:“超薄的硒化铟,是处于硅和石墨烯之间的理想材料。类似于石墨烯,硒化铟具有天然超薄的形态,使真正纳米级的工艺成为可能。又和硅类似,硒化铟是优秀的半导体。”由于发现了石墨烯,Sir Andre Geim 获得了诺贝尔物理学奖。他同时也是这项研究的作者之一。原文链接