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三星被指盗取FinFET芯片专利技术将被起诉

2016-12-05 09:40分享至
韩媒称,韩国科学技术院(KAIST)计划对三星提起诉讼,指控后者侵犯其FinFET专利。KAIST称,他们开发了10纳米FinFET工艺,但是三星窃取了这项技术,并将其用于生产高通骁龙835芯片。KAIST表示,英特尔已意识到他们才是FinFET技术的真正开发者,并取得了授权使用这项技术,但是三星并未这么做。KAIST还认为高通、台积电也侵犯了FinFET技术专利。原文链接

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2016-12-05

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