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新款金属薄膜可用于制造微机电系统设备,性能比硅强

2017-07-14 11:53分享至
据外媒报道,约翰·霍普金斯大学(Johns Hopkins University)带队研发了新款金属薄膜,未来该材料或将被用于制造传感器等微机电系统(MEMS)设备,其抗拉强度、耐热、耐高温性能比硅强。该薄膜在进行拉伸试验时展现了极强的抗拉强度,这意味着形状保持能力极强,不会变形或破碎,其抗拉强度是高强度钢的三倍。尽管极少数其他材料也有类似的抗拉强度,但那些材料既不耐高温,也无法轻易加工成形并制造MEMS部件。原文链接

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2017-07-14

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