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中国首套高端光刻机曝光系统通过验收测试

2017-10-25 17:10分享至
10月25日,科技部原副部长曹健林在“第十五届中国国际半导体博览会暨高峰论坛”上透露,中国首套高端光刻机曝光系统,于本月在整机环境下通过验收测试。曹健林表示,高端光刻机曝光光学系统的产业化准备已经就绪,长春国科精密光学技术有限公司早于2014年8月成立,该公司对超精密制造设备总投资约2亿元,扩产后将达5亿元。(证券时报网)

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2017-10-25

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